随着联合国通过《水俣公约》，汞灯的生产和使用逐渐受到限制，发展替代传统气态汞灯的新型深紫外光源成为迫切需求。与传统汞灯相比，发光波长在210 nm-300 ...

春节将至，很多爱美的宝子们早早的给自己安排上了“新年战甲”。

哈尔滨工业大学发布消息，EUV光刻机的光源技术取得了重大突破——“放电等离子体极紫外光刻光源”项目荣获了黑龙江省高校和科研院所职工科技创新成果转化大赛一等奖。

中国科学家正在开创极紫外光刻技术（Extreme Ultraviolet Lithography，EUV）开发的新方法，这一技术的进展为大规模生产先进半导体芯片铺平了道路。在当前研究人员努力规避美国严格制裁的背景下，这些突破显得尤为重要。